如何測量包含在回路中但不改變電路的接觸電阻？

　　一種新方法將解決它。這種方法對于測量復雜機械裝配中的接觸電阻非常有用。接觸電阻定義為觸點(diǎn)兩端的電壓與流過(guò)一對閉合觸點(diǎn)的電流之比。它符合歐姆定律。金屬 1 和金屬 2 之間有一個(gè)接口。來(lái)自電流源的電流 I 流過(guò)這個(gè)接口，可以從電流表中讀取。然后可以從電壓表中讀取界面上的電壓降為 U。然后可以計算出接觸電阻值 Rx。

　　Rx=U/I

　　由于接觸電阻隨環(huán)境和電流通過(guò)而變化，因此測量條件應與使用條件接近。精確測量必須使用四端測量技術(shù)和消除熱電動(dòng)勢技術(shù)。這種間接測量方法可用于測量接觸電阻或回路電阻。它需要三個(gè)測試點(diǎn)、三個(gè)步驟和三個(gè)公式。該方法已被證實(shí)是正確的，也可用于校準環(huán)路電阻標準。

　　接觸電阻測試的典型方法

　　四線(xiàn)（開(kāi)爾文）直流電壓降是微歐表進(jìn)行接觸電阻測試的典型方法，它通過(guò)消除自身的接觸電阻和測試引線(xiàn)的電阻來(lái)確保更準確的測量。

　　接觸電阻測試使用兩個(gè)電流連接進(jìn)行注入，使用兩個(gè)電位引線(xiàn)進(jìn)行電壓降測量；電壓電纜必須盡可能靠近要測試的連接，并且始終位于連接的電流引線(xiàn)形成的電路內。

　　根據電壓降的測量，微處理器控制的微歐表計算接觸電阻，同時(shí)消除連接中的熱 EMF 效應可能產(chǎn)生的誤差（熱 EMF 是兩種不同金屬連接在一起時(shí)產(chǎn)生的小熱電偶電壓）它們將被添加到測量的總電壓降中，如果不通過(guò)不同的方法（極性反轉和平均，直接測量熱 EMF 幅度等）從測量中減去它們，則會(huì )在接觸電阻測試中引入誤差。

　　如果在使用低電流測試斷路器接觸電阻時(shí)獲得低電阻讀數，則建議在更高電流下重新測試觸點(diǎn)。為什么我們會(huì )受益于使用更高的電流？較高的電流將能夠克服端子上的連接問(wèn)題和氧化，在這些條件下，較低的電流可能會(huì )產(chǎn)生錯誤的（較高的）讀數。

　　在接觸電阻測試中保持一致的測量條件非常重要，以便能夠與之前和未來(lái)的結果進(jìn)行比較以進(jìn)行趨勢分析。因此，在進(jìn)行定期測量時(shí)，必須在相同的位置、使用相同的測試引線(xiàn)（始終使用制造商提供的校準電纜）和相同的條件下進(jìn)行接觸電阻測試，以便能夠知道何時(shí)連接、連接、焊接或設備將變得不安全。